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鈦靶材

材質(zhì): TA1、TA2、TA9、TA10、TC4
表面:
狀態(tài):
標準: GB/T16598
工藝:
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鈦靶材由鈦金屬制成鈦元素符號 Ti ,原子序數(shù) 22 ,密度 4.454g/Cm3 ,物理性質(zhì):熔點 1668℃,沸點 3262℃,比熱容 0.52(J /(Kg·K) ,蒸發(fā)熱 421(KJ/Mol),熔化熱 15.45(KJ/Mol),導(dǎo)電率 0.0234(106/Cm) 。由于高純鈦的成本相當昂貴,應(yīng)用領(lǐng)域極其有限,主要用作半導(dǎo)體材料和超高真空裝置中的吸氣材料。鈦靶材供應(yīng)商加工的高純度鈦靶材具有吸氣性,特別是吸氫、CH4、Co2氣體,因此高純度鈦靶材能在高真空和超高真空系統(tǒng)中獲得廣泛應(yīng)用。用高純度鈦靶材濺射制作LSI、VLSI、ULSI的線路網(wǎng)時,可使這些集成件變得格外輕、薄、尺寸小而且線路密集。高純鈦靶材也可以用作阻擋層金屬材料。

寶雞鈦靶材廠家對于鈦靶材加工方法:

1、鈦靶材加工方法是采用電子束轟擊爐進行電子束冷床熔煉提純后制成鈦錠,通過塑形變形及機械加工方法將鈦錠制成所需規(guī)格尺寸的鈦靶材,采用上述方法制成的鈦靶材純度高,所濺射制成的膜層厚度均勻,且比常規(guī)低純鈦靶鍍膜具有耐磨性強,附著力好的特點。

鈦靶材的其他合金形式

鈦鋁靶材、鈦鉻靶材、鈦鎳合金靶材等。


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