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鈦的表面處理技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2021-08-18 17:08:37訪問數(shù)量:1259

在高溫下易于與空氣中的O、H、N等元素及包埋料中的Si. Al. Mg等元素發(fā)生反應(yīng),在鑄件表面形成表面污染層,使其優(yōu)良的理化性能變差,硬度增加。塑性,彈性降低,脆性增加。

密度小,故鈦液流動(dòng)時(shí)慣性小,熔鈦流動(dòng)性差致使鑄流率低。鑄造溫度與鑄型溫差(300℃)較大,冷卻快,鑄造在保護(hù)性氣氛中進(jìn)行,鐵鑄件表面和內(nèi)部難免有氣孔等缺陷出現(xiàn),對(duì)鑄件的質(zhì)量影響很大。因此,鐵鑄件的表面處理與其它牙用合金相比顯得更為重要,由于達(dá)的獨(dú)特的理化性能,如導(dǎo)熱系數(shù)小,表面硬度,及彈性模量低,粘性大,電導(dǎo)率低、易氧化等,這對(duì)飲的表面處

理帶來了很大的難度,采用常規(guī)的表面處理方法很難達(dá)到理想的效果。必須采用特殊的加工方法和操作手段,銷件的后期表面處理不僅是為了得到平滑光亮的表面,減少食物及菌班等的積聚和粘附,維持患者的正常的口腔微生志的平衡,同時(shí)也增加了義也的美感;更重要的是通過這些表面處理和改性過程,改善詩件的表面性狀和適合性,提高義出的耐磨,對(duì)蝕和抗應(yīng)力疫勞等理化特性。

二、酸洗:酸洗能夠快速完全去除表面反應(yīng)層,而表面不會(huì)產(chǎn)生其他元素的污染。HF-HCI系和HF-HNO3系酸洗液都可用于鐵的酸洗,但HF-HCI系酸洗液吸氨量較大,而HF-HNO3系酸洗液吸氨量小,可控制HNO3的濃度減少吸氨,并可對(duì)表面進(jìn)行光亮處理,一般HF 的濃度在3%~5%左右,HNO3的濃度在15%~30%左右為宜。待造缺陷的處理勺內(nèi)部氣孔和縮扎內(nèi)部缺陷:可等熱靜壓技術(shù)(hot isostatic pressing法除,但對(duì)義也的精度會(huì)產(chǎn)生影響,最好用X線探傷后,表面磨除暴露氣扎,用激光補(bǔ)焊。表面氣扎缺陷可直接用激光局部焊接修樸。

三、研套與地光

1.機(jī)械研象:鈦合金的化學(xué)反應(yīng)性高,導(dǎo)然系數(shù)低,粘性大,機(jī)城研套研劃比低,且易于詹料鷹具發(fā)生反應(yīng),普通磨科不宜用于飲的研究與拋光,最好采用導(dǎo)熱性好的超硬摩料,如金剛石,立方氮化硼等,拋光線速度一般為900~1800m/min.為宜,否則,鈦表面易發(fā)生研削,燒傷和微裂紋。

2.超聲波研磨:通過超聲振動(dòng)作用,使磨頭和被研磨面間的磨粒與被研磨面產(chǎn)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)。而達(dá)到研磨,拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)在于常規(guī)旋轉(zhuǎn)工具研磨不到的溝、寓和狹窄部位變得容易了,但較大的鑄件研磨效果還不能令人滿意。

3. 電解機(jī)械復(fù)合研磨:采用導(dǎo)電磨具,在磨具與研磨面之間施加電解液和電壓,通過機(jī)械和電化學(xué)拋光的共同作用下,降低表面粗糙度提高表面光澤度。電解液為0. 9NaCl,電壓,為5v,轉(zhuǎn)速3000rpm/min.,此方法只能研磨平面,對(duì)復(fù)雜的義步支架的研磨還處于研究。

4.桶研磨:利用研磨桶的公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力,使桶內(nèi)的義告與磨料相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)而起到降低表面粗糙度的研磨目的。研磨自動(dòng)化、效率高,但只能降低表面粗糙度而不能提高表面光澤度,研磨的精度較差,可用與義齒精拋光前的去毛刺和粗研磨。

5. 化學(xué)拋光:化學(xué)拋光是通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān),凡與拋光液接觸的部位均被拋光,不須特殊復(fù)雜設(shè)備,操作簡便,較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鐵義告支架的拋光。但化學(xué)拋光的工藝參數(shù)較難控制,要求在不影響義當(dāng)精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果。較好的鐵化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制,HF是還原劑,能溶解飲金屬,起到整平作用,濃度<10%,HNOB起氧化作用,防止鐵的溶解過度和吸氨,同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用。鐵拋光滾要求濃度高,溫度低,地光時(shí)間短(1~2min.).

6. 電解拋光:又稱為電化學(xué)拋光或者陽極溶解拋光,由于飲的電子率較低,氧,化性能極強(qiáng),采用有水酸性電解液如HF-H3PO4,HF-H2SO系電解液對(duì)飲兒于不能拋光,施加外電壓后,飲陽極立刻發(fā)生氧化,而使陽極溶解不能進(jìn)行。但樂用無水氯化物電解液在低電壓下,對(duì)飲有良好的拋光效果,小型試件可得到鏡面地光,但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光的目的,也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題,還有待于進(jìn)一步研究。

鈦管2.jpg

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